C171149 Plasmatherm Slr 720 Pecvd / 720 Rie Sistema de deposición de grabado de iones reactivos

Descripción del anuncio

Plasmatherm SLR 730 PECVD /720 RIE • Sistema independiente de deposición y grabado de doble cámara 720/720 • Sistema basado en ventanas controlado por PC • Plasmatherm 700 Cámara de cuerpo de aluminio • Versión Load Lock con (2) dos módulos de proceso • Un PECVD • Un RIE ( grabado de iones reactivos) • El cuerpo principal del sistema (componentes compartidos entre las dos cámaras) incluye • Revestimientos de acero inoxidable • Controles de PC basados en Windows • RFPP de energía avanzada: fuente de alimentación RF5S (500 W – 13,56 MHz) • Red de coincidencia AM5 de energía avanzada con sintonizador • Bomba Load Lock Leybold D25 o equivalente • Refrigerador Neslab HX 75 con interfaz RS232 al sistema • Caja de desconexión eléctrica: 208 V, trifásico, 60 amperios • Pantalla plana con teclado y mouse • Juego completo de manuales • El módulo PECVD incluye • Mandril calentado • Controlador Watlow • Mandril de 11” con tipo de elevación central • Ventanas ópticas para control y diagnóstico de punto final • Bomba mecánica Leybold D40 con soplador 151 (mín.) • Controlador de indicador de iones MKS 290 y indicador de iones • Controlador de indicador MKS TC • 1 o 2 Torr Bara tron • 4 MFC de gas • El módulo RIE incluye • Electrodo inferior • Cabezal de ducha de 11” • Mandril de 11” – tipo de elevación central • Ventanas ópticas para control y diagnóstico de punto final • Detector láser de punto final Soffie Clase III • Válvula de mariposa MKS 153 • Bomba turbo Leybold 361C • Controlador turbo Leybold 150/360 NT • Bomba de vacío preliminar mecánica Leybold D40BCS • Baratron de 500 mT • 4 MFC de gas Especificación de una cotización cuando la Universidad actualizó el sistema después de la compra original Servicio de instalación y fabricación de tuberías de gas y colectores de gas • Fabricación e instalación (4) barras/líneas de gas adicionales que incluyen válvulas Nupro (con válvulas de derivación incluidas), uniones, prensaestopas, accesorios VCR, MFC y colectores de gas para servir al sistema Plasmatherm de doble cámara PECVD/RIE existente como se indica a continuación. • (2) - colectores de 4 puertos • (2) - varillas de gas para nitrógeno y argón que incluyen válvula nupro, mfc y conexión de pata "L" a gas • (2) - varillas de gas con derivación (altamente recomendadas para Cl2 y BCl3) , para incluir 3 válvulas nupro y mfc • PCB de control de válvula de 2 a 4 canales (para las válvulas nupro) • Tubería de 1/8" para las válvulas nupro (~40 pies) • Recableado de los conectores de PCB de control de válvula para admitir esto ajuste, tapones, clavijas y cables según sea necesario • JVIC necesitará mover la conexión de entrada de purga de N2 a su nueva ubicación (para admitir la adición del colector de 4 puertos • Los MFC se limpiarán y calibrarán con nitrógeno para los siguientes caudales • (2) para el lado PECVD del sistema • Nitrógeno: 2000 sccm • Argón: 500 sccm • (2) para el lado RIE del sistema • BCL3: 50 sccm • Cl2: 50 sccm

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