Empreintes moléculaires Imprio 55

Description de l'offre

Empreintes Moléculaires Imprio 55 Nano Imprint Lithographie Système composé de:

- Modèle: Imprio 55
- Outil de lithographie par nano-empreinte
- Résolution éprouvée jusqu'à 30 nm.
- L'Imprio 55 utilise S-FIL, une technique de lithographie bicouche dans laquelle un liquide durcissable aux UV de faible viscosité est distribué en gouttelettes sur une couche de planarisation organique standard sous-jacente, permettant l'impression sur une large gamme de couches de dispositifs semi-conducteurs.
- L'Imprio 55 utilise un processus pas à pas et a la flexibilité de prendre en charge des plaquettes jusqu'à 8 pouces avec un modèle unique à faible coût.
- Des substrats fragiles comme le GaAs, l'InP ou le verre peuvent également être imprimés.
- L'Imprio 55 peut imprimer jusqu'à un champ carré de 10 mm ou un champ rond de 14 mm de diamètre.
- Disponible pour une inspection complète chez ClassOne Equipment.

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