Ultratech Inc SAVANNAH G2

Description de l'offre

ULTRATECH SAVANNAH G2
Système de dépôt laser atomique
Volts: 100-120 VCA
KVA: 1,5KVA-2KVA
HERTZ: 50 à 60 Hz
La plate-forme Savannah G2 incorpore une large gamme d'options avancées évolutives sur le terrain destinées à aider les chercheurs sérieux à élargir leur portefeuille de films ALD disponibles, ainsi qu'à leur permettre de caractériser les films en temps réel. Parmi la gamme d'options du Savannah G2, un système unique de distribution de précurseurs à faible vapeur a été développé pour permettre la croissance de nouveaux matériaux, notamment des films à un ou plusieurs composants de la famille de la pérovskite, de l'yttrium, du lithium et des terres rares. Des options supplémentaires telles que l'ellipsométrie, la microbalance à quartz (QCM) et la spectrométrie de masse permettent la croissance simultanée des films ALD et la caractérisation en temps réel du processus de dépôt, qui sont toutes des capacités indispensables pour les activités de développement et d'optimisation de processus.

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