DNS Dainippon DNS S

Beschrijving advertentie

Dainippon Scherm DNS SU3000

Vintage: 2005
Status: Zittend op een basis in een magazijn in Azië.

Wafelgrootte 300 mm
Aantal kamers 4
Bediening voorzijde
Aantal laadpoorten 3
Aantal Chemische Kabinet 3
Bovengronds transportsysteem (OHT) Ja

Laadpoort

Vervaardiging TDK
Modelnr. TYPE?E3
IR

Fabricage Yasukawa Electric Corp.
Modelnr. XU-RC350D (manipulator)
XU-ACT153L (overdrachtsas)
FFU

Modelnr. PCF-18SU3EA
Materiaal Fluorideringsharsfilter
Capaciteit van filter 99,999% of meer van 0,1 m deeltjes
Bereik van luchtregeling 0~0,4 m/sec
Overdrachtseenheid

CR

Fabricage Yasukawa Electric Corp.
Modelnr. XU-RC615L
FFU

Modelnr. PCF-43SU3EB
Materiaal Fluorideringsharsfilter
Capaciteit van filter 99,999% of meer van 0,1 m deeltjes
Bereik van luchtregeling 0~0,6 m/sec
MP kamer

NozzleBB-nozzle (schildplaat)

mondstuk-1 DIW
mondstuk-2 N2
Scanmondstuk-1

mondstuk-1 LAL1400
mondstuk-2 HF
mondstuk-3 DIW
Scanmondstuk-2

mondstuk-1 (zacht sproeitype) SC-1
nozzle-2 (zachte sproeispoeling) DIW
mondstuk-3 DIW
Achterkant mondstuk

mondstuk-1 HF
mondstuk-2 SC-1
mondstuk-3 DIW
mondstuk-4 N2
Spin basis

Materiaal PCTFE?SiC
Draaimotor AC servomotor
Revolutie Max.3000rpm
Versnelling Max. 1000 tpm/sec
Omwentelingsnauwkeurigheid ±3rpm (bij 3000rpm)
Chuck

Boorkopaandrijving Pulsmotor
Materiaal PCTFE
Waferdetectie Detectie door spanpennen (door fotosensor)
schild plaat

Materiaal HT-PVC
Revolutieaandrijving AC-servomotor
Revolutie Max.3000rpm
Versnelling Max. 1000 tpm/sec
Omwentelingsnauwkeurigheid ±3rpm (bij 3000rpm)
Up/down shift AC servomotor
Afstand tot het wafeloppervlak Min.0.3mm
Spatbescherming

Structuur Chemische collectie
Materiaal PTFE
Up/down shift AC servomotor
Luik

Aandrijving Luchtcilinder
FFU

Modelnr. PCF-3SU3FC
Materiaal Fluorideringsharsfilter
Capaciteit van filter 99,9999% van 0,1 m deeltjes
Bereik van luchtregeling 0~0,3 m/sec
Neveneenheden

Chemische Kabinet 1
Temperatuurregeling van lage temperatuur
Chemisch gebruikt HF (49%)
Chemische mengverhouding HF: H2O = 1:2 of HF
Bereik van temperatuurregeling RT – 50C
Chemische Kabinet 2
Temperatuurregeling van lage temperatuur
Chemische gebruikte LAL1400
Bereik van temperatuurregeling RT – 50C
Concentratiemonitor HORIBA CM-210
Chemische Kabinet 3
Temperatuurregeling van lage temperatuur
Chemisch gebruikt NH4OH, H2O2, H2O
Chemische mengverhouding NH4OH:H2O2:H2O = 1:4:20 – 1:1:5
Bereik van temperatuurregeling RT – 50C
Temperatuurregeling

Bereik van temperatuurregeling 20 ~ 30?
Regelnauwkeurigheid Ingestelde temperatuur ±0.5
Filter

Chemische QCDV ATX TH (Dispo 10 inch: Japan Microlis)
0,1?m
DIW STRERAPORE MINI*
0,1?m
N2 WGMXMBSS3 (Japan Microlis)
0,01?m
E-FLOW

Module SEPAREL PF-001L
Weerstandsmeter OE-960CE
Weerstandssensor ESD-001C-T
Sensorkabel CK-10M
Sensorhouder EFA-30
Relais MY2N-CR DC24V

This equipment is located in IE