DNS Daiippon DNS S

Descrição do anúncio

Dainippon Screen DNS SU3000

Safra: 2005
Status: Sentado em uma base em um armazém na Ásia.

Tamanho da bolacha 300 mm
Número de Câmaras 4
Manipulação Frontal
Número de porta de carga 3
Número de Gabinete Químico 3
Sistema de Transporte Aéreo (OHT) Sim

Carregar porta

Fabricar TDK
Modelo nº TYPE?E3
RI

Fabricação Yasukawa Electric Corp.
Modelo nº XU-RC350D (manipulador)
XU-ACT153L (eixo de transferência)
FFU

Modelo nº PCF-18SU3EA
Material Filtro de resina de fluoretação
Capacidade do filtro 99,999% ou mais de partículas de 0,1?m
Faixa de controle de ar 0~0,4 m/s
Unidade de transferência

CR

Fabricação Yasukawa Electric Corp.
Modelo nº XU-RC615L
FFU

Modelo nº PCF-43SU3EB
Material Filtro de resina de fluoretação
Capacidade do filtro 99,999% ou mais de partículas de 0,1?m
Faixa de controle de ar 0~0,6 m/s
Câmara MP

Bocal NozzleBB (placa de proteção)

bocal-1 DIW
bocal-2 N2
Bocal de digitalização-1

bocal-1 LAL1400
bocal-2 HF
bocal-3 DIW
Bocal de digitalização-2

bocal-1 (tipo spray suave) SC-1
bocal-2 (enxágue com spray suave) DIW
bocal-3 DIW
Bocal traseiro

bocal-1 HF
bocal-2 SC-1
bocal-3 DIW
bocal-4 N2
Base giratória

Material PCTFE?SiC
Motor giratório Servo motor CA
Revolução Max.3000rpm
Aceleração Máx. 1000 rpm/s
Precisão da revolução ± 3 rpm (a 3000 rpm)
Mandril

Acionamento do mandril Motor de pulso
Material PCTFE
Detecção de wafer Detecção por pinos de mandril (por foto sensor)
Placa de proteção

Material HT-PVC
Servo motor CA de acionamento de revolução
Revolução Max.3000rpm
Aceleração Máx. 1000 rpm/s
Precisão da revolução ± 3 rpm (a 3000 rpm)
Servo motor AC de deslocamento para cima/para baixo
Distância até a superfície do wafer Min.0,3mm
Proteção contra respingos

Estrutura Coleção química
Material PTFE
Servo motor AC de deslocamento para cima/para baixo
Obturador

Cilindro de ar de acionamento
FFU

Modelo nº PCF-3SU3FC
Material Filtro de resina de fluoretação
Capacidade de filtro 99,9999% de partículas de 0,1?m
Faixa de controle de ar 0~0,3 m/s
Unidades auxiliares

Gabinete Químico 1
Controle de temperatura de baixa temperatura
Químico usado HF (49%)
Razão de mistura química HF: H2O = 1:2 ou HF
Faixa de controle de temperatura RT - 50C
Gabinete Químico 2
Controle de temperatura de baixa temperatura
Produto químico usado LAL1400
Faixa de controle de temperatura RT - 50C
Monitor de concentração HORIBA CM-210
Gabinete Químico 3
Controle de temperatura de baixa temperatura
Químico usado NH4OH, H2O2, H2O
Proporção de mistura química NH4OH:H2O2:H2O = 1:4:20 – 1:1:5
Faixa de controle de temperatura RT - 50C
Controle de temperatura

Faixa de controle de temperatura 20~30?
Precisão de controle Temperatura definida ±0,5
Filtro

Químico QCDV ATX TH (Dispo 10 polegadas: Japão Microlis)
0,1?m
DIW STRERAPORE MINI*
0,1?m
N2 WGMXMBSS3 (Japan Microlis)
0,01?m
E-FLUXO

Módulo SEPAREL PF-001L
Medidor de resistividade OE-960CE
Sensor de resistividade ESD-001C-T
Cabo Sensor CK-10M
Suporte do Sensor EFA-30
Relé MY2N-CR DC24V

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