Optosystems Ardis 100

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Sistema de diamante CVD aprimorado com plasma MW com reator de 2 polegadas para deposição de filmes de diamante poli, mono e nanocristal de alta pureza, bem como nanotubos de carbono de mistura de gases (4 canais). Usado para fabricação de sondas de diamante AFM (consulte scdprobes.com), sem uso de dopagem de boro. Potência: até 6 kW a 2,45 GHz, vazão de gás: 0,1 a 60 L/h, misturas principais: ?2/??4, ?2/??4/?2, Ar/H2/CH4, dopagem: N2 (centros de cor NV). Temperatura controlada da bolacha até 1200 graus. Velocidade de deposição: até 6 um/h. Controle visual, refrigeração a água, controle automatizado.

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