C171149 Plasmatherm Slr 720 Pecvd / 720 Rie Reactive Ion Etch Deposition System

Περιγραφή καταχώρησης

Plasmatherm SLR 730 PECVD /720 RIE • Αυτόνομο σύστημα διπλού θαλάμου 720/720 Deposition & Etch • Σύστημα ελεγχόμενου υπολογιστή με παράθυρα • Θάλαμος αλουμινίου Plasmatherm 700 • Έκδοση Load Lock με (2) δύο μονάδες διεργασίας • Μία PECVD • Μία RIE ( Reactive Ion Etch) • Το κύριο σώμα του συστήματος (κοινόχρηστα εξαρτήματα μεταξύ των δύο θαλάμων) περιλαμβάνει • Επεξεργασίες από ανοξείδωτο χάλυβα • Χειριστήρια υπολογιστή που βασίζονται σε Windows • Προηγμένη ενέργεια RFPP - Τροφοδοτικό RF5S (500W – 13,56MHz) • Advanced Energy AM5 αντίστοιχο δίκτυο με δέκτη • Leybold D25 ή αντίστοιχη αντλία Lock Lock • Ψυκτικό συγκρότημα Neslab HX 75 με διασύνδεση RS232 με το σύστημα • Κουτί ηλεκτρικής αποσύνδεσης - 208V, 3 φάσεις, 60amp • Επίπεδη οθόνη με πληκτρολόγιο και ποντίκι • Πλήρες σετ εγχειριδίων • Η μονάδα PECVD περιλαμβάνει • Θερμαινόμενο τσοκ • Ελεγκτής Watlow • Τσοκ 11" με τύπο κεντρικής ανύψωσης • Οπτικά παράθυρα για Έλεγχο και διαγνωστικό σημείο τελικού • Leybold D40 με 151 ανεμιστήρα (ελάχ.) Μηχανική αντλία • Ελεγκτής μετρητή ιόντων MKS 290 και μετρητής ιόντων • Ελεγκτής μετρητή μετρητή MKS TC • 1 ή 2 Torr tron • 4 μονάδες MFC αερίου • Η μονάδα RIE περιλαμβάνει • Κάτω ηλεκτρόδιο • κεφαλή ντους 11” • τσοκ 11” – τύπος κεντρικής ανύψωσης • Οπτικά παράθυρα για έλεγχο και διαγνωστικά σημεία τελικού σημείου • Ανιχνευτής τελικού σημείου λέιζερ Soffie Class III • Βαλβίδα γκαζιού MKS 153 • turbo αντλία Leybold 361C • Leybold 150/360 NT turbo controller • Leybold D40BCS μηχανική αντλία χονδροποίησης • 500 mT Baratron • Προδιαγραφή 4 αερίου MFC από μια προσφορά όταν το Πανεπιστήμιο αναβάθμισε το σύστημα μετά την αρχική αγορά Πολλαπλών αερίου και υπηρεσία κατασκευής και εγκατάστασης αγωγών αερίου • Κατασκευή και εγκατάσταση (4) πρόσθετες ράβδοι/γραμμές αερίου, συμπεριλαμβανομένων βαλβίδων Nupro, (με βαλβίδες παράκαμψης περιλαμβάνονται), συνδέσμους, στυπιοθλίπτες, εξαρτήματα βίντεο, MFC και πολλαπλές αερίου για την εξυπηρέτηση του υπάρχοντος συστήματος Plasmatherm Dual Chamber PECVD/RIE όπως αναφέρεται παρακάτω. • (2) - Πολλαπλοί 4 θυρών • (2) - ράβδοι αερίου για άζωτο και αργό που περιλαμβάνουν βαλβίδα nupro, mfc και "L" πόδι με σύνδεση αερίου • (2) - ραβδώσεις αερίου με παράκαμψη (συνιστάται ιδιαίτερα για Cl2 και BCl3) , για να περιλαμβάνει 3 βαλβίδες nupro και mfc • PCB ελέγχου βαλβίδων 2 - 4 καναλιών (για τις βαλβίδες nupro) • Σωλήνωση 1/8" για τις βαλβίδες nupro (~40 πόδια) • Επανακαλωδίωση των βυσμάτων PCB ελέγχου βαλβίδων για την υποστήριξη αυτού up-fit, βύσματα, ακίδες και καλώδιο όπως απαιτείται • Η JVIC θα χρειαστεί να μετακινήσει τη σύνδεση εισόδου εξαέρωσης N2 στη νέα της θέση (για να υποστηρίξει την προσθήκη της πολλαπλής 4 θυρών • Τα MFC θα καθαριστούν και θα βαθμονομηθούν σε Nitrogen για τους ακόλουθους ρυθμούς ροής • (2) για την πλευρά PECVD του συστήματος • Άζωτο – 2000 sccm • Αργό – 500 sccm • (2) για την πλευρά RIE του συστήματος • BCL3 - 50 sccm • Cl2 – 50 sccm

This equipment is located in US