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Misurazione nanometrica 3D con profiler ottico con tecnologia confocale, interferometria e variazione della messa a fuoco.
Una soluzione di controllo qualità e ricerca e sviluppo progettata per la velocità. Profilazione 3D al nanometro con 3 tecnologie ottiche e la capacità di misurare superfici lisce e lucide.
L'S Neox misura utilizzando tecniche confocale, interferometria e variazione della messa a fuoco. Per la misura di rugosità, finitura superficiale, planarità e ondulazione su materiali come film sottile e wafer.
Variazione Ai focus: salva ogni livello mentre l'obiettivo si sposta verso l'alto permettendoti di vedere la forma e la curvatura.
Confocale: consente solo di focalizzare la luce permettendoti di vedere la struttura della superficie.
Interferometria: utilizza un laser per consentire misurazioni molto accurate fino a nanometri, ideali per superfici lucide come i wafer.
Riflettometria spettroscopica: esegue misurazioni di spessore su strati trasparenti in modo rapido, accurato e non distruttivo.
This equipment is located in MY
Produttore | Sensofar Metrology |
Modello | PLU-NEOX |
Anno | 2011 |
Paese | Malesia |
Condizione | Buono |
Categoria principale | Attrezzature industriali varie |
Sottocategoria | Apparecchiature per test ottici |
ID | P21010020 |
Tipo di cliente | Utente finale |
Su Kitmondo dal | 2022 |
Numero di annunci | 29 |
Paese | Malesia |
Ultima attività | Aprile 24, 2024 |
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