Karl SUSS MJB-3

Descrição do anúncio

O Alinhador de Máscara Karl Suss MJB 3 foi projetado para fotolitografia de alta resolução em laboratório, desenvolvimento ou ambiente de produção piloto. O MJB 3 oferece flexibilidade inigualável no manuseio de substratos de formato irregular e peças de diferentes espessuras, bem como wafers de tamanho padrão de até 3" de diâmetro.

Microscópio:

M400 Normalfield com torre objetiva giratória e cabeça de microscópio trinocular

Objetivos do microscópio:

Objetivos Leitz NPL 5X, 10X e 20X

Óculos de microscópio:

oculares 10X

Casa da lâmpada:

casa de lâmpadas de 350 W

Lâmpada:

A lâmpada de mercúrio (Hg) de alta pressão de 350 W está instalada atualmente

Óptica de exposição:

UV400

Sensor óptico:

CH1: 365nm, CH2: 405nm

Cronômetro:

Digital

Fonte de alimentação CIC:

Controlador de intensidade constante CIC 1000

NOTA:

ESTE MJB 3 TAMBÉM PODE SER ENCOMENDADO PARA AS SEGUINTES CONFIGURAÇÕES:
APLICAÇÕES DUV (254nm) ALINHAMENTO IR.
ENTRE EM CONTATO CONOSCO PARA DETALHES E PREÇOS

Ferramentas:

Inclui um (1) conjunto de suporte de máscara padrão e mandril de alinhamento de wafer correspondente ao tamanho de wafer desejado pelo cliente

Tabela Vib/Iso:

Vendido separadamente; sujeito a disponibilidade no momento do pedido

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