Forno Yield Engineering 3TA HMDS Vapor Prime

Descrizione dell'annuncio

Camera interna: 12" l x 13,25" p x 12" h
(2) Regolatori di temperatura PID
25-200ºC
Controller logico PLD con display touchscreen
Vacuometro digitale Granville-Phillips
Recipiente HMDS con riempimento a sifone ad alta capacità, montato lateralmente, con vacuometro montato sul recipiente
Gli interblocchi del vuoto e della pressione garantiscono l'integrità del processo e il controllo della pressione dell'azoto
Spegnimento del riscaldatore con protezione da sovratemperatura
Azoto preriscaldato per portare rapidamente i wafer alla temperatura operativa
Funzionalità multiprogramma
Materiale della camera: acciaio inossidabile 316L lucidato elettrochimicamente
120 V, monofase, 50/60 Hz, 14 A
Opzionale: pompa per vuoto 7CFM, idrocarburo o fomblin

This equipment is located in US