Bonder a filo DYNAPERT Emhart 200

Anno:

Macchina per l'inserimento assiale DYNAPERT Emhart 200 220 V 50 Hz

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IT Italia

GIORNI MICROTESTER Wire Bonder

Anno:

DAGE MICROTESTER Tester di trazione/taglio di fili metallici Modello BT22

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IT Italia

Bonder per filo CAMMAX PRECIMA EDB65

Anno:

L'EDB65 è un bonder manuale affidabile e facile da usare che garantisce un'elevata precisione di posizionamento per tutte le applicazioni di laboratorio, prototipi, preproduzione e lavori di produzione limitata. Può essere riconfigurato rapidamente per accettare tutti i comuni pacchetti di semiconduttori e funziona in modalità manuale fino a 300 unità all'ora. MANIPOLAZIONE E POSIZIONAMENTO DELLO STAMPO: Il carico della testa …

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IT Italia

Macchina di semiconduttori Metzner AM 2000

Anno: 1994

Gamma di dimensioni del filo, a trefoli 0,14 - 6 mm² (AWG 25 - 10) Gamma di dimensioni del filo, pieno 0,14 - 2,0 mm² (AWG 25 - 14) Diametro esterno del filo max. 6 mm Lunghezza di estrazione max. 1. lato 30 mm Lunghezza di estrazione max. 2. lato 100 mm Lunghezza totale programmabile 10 mm - 100 m …

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CZ Repubblica Ceca

SISTEMA DI DEPOSIZIONE ATOMICA DI STRATO SAVANNAH S200-ALD

Anno: 2007

Modello: SISTEMA DI DEPOSIZIONE ATOMICA DI STRATO SAVANNAH S200-ALD Categoria: SISTEMA DI DEPOSIZIONE A STRATO ATOMICO, apparecchiature per processi a semiconduttore Produttore di apparecchiature originali: SAVANNAH,CAMBRIDGE NANOTECH , Veeco Cambridge Nanotech Ultratech Condizioni: Completo, funzionante e testato dal venditore Posizione: U.S.A. Installazione e formazione: Disponibile a pagamento.

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US Stati Uniti

Macchina di semiconduttori Olympus CX21

Anno:

Microscopio di fase Olympus CX21 Condizioni pari al nuovo 10 oculari Obiettivi 4x, 10x, 40x

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IL Israele

OXFORD Plasmalab 100 RIE Plasma Etcher Apparecchiature per processi di semiconduttori, front-end.

Anno: 2004

Tutte le specifiche e le informazioni sono soggette a modifiche senza preavviso e non possono essere utilizzate per l'acquisto e la pianificazione della struttura. Si prega di controllare le informazioni aggiornate sul nostro sito web prima di procedere all'acquisto. Grazie per il vostro tempo. Modello: Oxford 100 RIE Categoria: Plasma Etcher, Apparecchiature per processi di semiconduttori, RIE Produttore di apparecchiature …

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US Stati Uniti

Processore termico rapido Heatpulse 8108 di AG Associates

Anno: 1995

Tutte le specifiche e le informazioni sono soggette a modifiche senza preavviso e non possono essere utilizzate per l'acquisto e la pianificazione della struttura. Si prega di controllare le informazioni aggiornate sul nostro sito web prima di procedere all'acquisto. Grazie per il vostro tempo. Modello: Heatpulse 8108 Categoria: RTP - Trattamento termico rapido Produttore di apparecchiature originali: AG Associates Condizione:Completamente …

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US Stati Uniti

PlasmaLab 80 Plus PEVCD

Anno: 1996

Modello: PlasmaLab 80 Plus, PECVD Plasmalab 80+ DPCVD Categoria: PECVD, Apparecchiature per processi di semiconduttori Produttore di apparecchiature originali: Oxford, PlasmaLab Condizioni: Completamente rimesso a nuovo e testato dal venditore Posizione: U.S.A. Installazione e formazione: Disponibile a pagamento.

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US Stati Uniti

Matrice 303, Matrice 302 incisore al plasma per semiconduttori

Anno: 1995

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US Stati Uniti

Gasonics L3510 Plasma Asher Descum apparecchiature per processi di semiconduttori, front-end.

Anno: 1995

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US Stati Uniti

SPTS STS Multiplex ICP HRM

Anno: 2005

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US Stati Uniti

MPT RTP-3000 Apparecchiatura per il trattamento termico rapido

Anno: 1995

Modello: MPT RTP-3000 Categoria: RTP - Trattamento termico rapido Produttore di apparecchiature originali: MPT Condizione: Completamente rimesso a nuovo e testato dal venditore Posizione: U.S.A. Installazione e formazione: Disponibile a pagamento.

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US Stati Uniti

Sistema al plasma Technics 2000

Anno: 1985

Modello: Technics 2000, Technics PE-IIA Categoria: Asher al plasma, Apparecchiature di processo per semiconduttori Produttore di apparecchiature originali: Technics Condizioni: Completamente ricondizionato e testato dal venditore Posizione: U.S.A. Installazione e formazione: Disponibile a pagamento.

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US Stati Uniti

Gasonics Aura 2000LL Plasma Asher Descum apparecchiature di processo per semiconduttori, front-end.

Anno: 1995

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US Stati Uniti

SPTS STS Multiplex ICP MACS Processo Bosch

Anno: 2005

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US Stati Uniti

Processore termico rapido JETFIRST 100 -RTP

Anno: 1995

Modello: JETFIRST 100 -RTP Categoria: RTP - Trattamento termico rapido Produttore di apparecchiature originali: Jipelec Condizione:Completamente ricondizionato e testato dal venditore Posizione: U.S.A. Installazione e formazione: Disponibile a pagamento.

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US Stati Uniti

PlasmaTherm 790 RIE Plasma Etcher Apparecchiature per processi di semiconduttori, front-end.

Anno: 1994

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US Stati Uniti

Branson/IPC 3000 Plasma Asher

Anno: 1987

Modello o numero di parte: Branson/IPC 3000 Descrizione: Plasma Asher Condizioni: Completo, funzionante con specifiche OEM. Termine del prezzo: EX-ORKS. L'acquirente è responsabile della spedizione. Il cliente è responsabile di eventuali tasse se applicabili. Tempi di consegna: 6-8 settimane dopo il primo pagamento, a seconda dei tempi di spedizione. Imballaggio: Incluso Installazione: Opzionale con un costo aggiuntivo di $4.000,00-$12000 a …

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US Stati Uniti