Sistema al plasma Technics 2000

Anno: 1985

Modello: Technics 2000, Technics PE-IIA Categoria: Asher al plasma, Apparecchiature di processo per semiconduttori Produttore di apparecchiature originali: Technics Condizioni: Completamente ricondizionato e testato dal venditore Posizione: U.S.A. Installazione e formazione: Disponibile a pagamento.

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Processore termico rapido Heatpulse 4100 di AG Associates

Anno: 1995

Tutte le specifiche e le informazioni sono soggette a modifiche senza preavviso e non possono essere utilizzate per l'acquisto e la pianificazione della struttura. Si prega di controllare le informazioni aggiornate sul nostro sito web prima di procedere all'acquisto. Grazie per il vostro tempo. Modello: Heatpulse 4100 Categoria: RTP - Trattamento termico rapido Produttore di apparecchiature originali: AG Associates Condizione:Completamente …

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SPTS STS Multiplex ICP MACS Processo Bosch

Anno: 2005

Tutte le specifiche e le informazioni sono soggette a modifiche senza preavviso e non possono essere utilizzate per l'acquisto e la pianificazione della struttura. Si prega di controllare le informazioni aggiornate sul nostro sito web prima di procedere all'acquisto. Grazie per il vostro tempo. Modello: SPTS STS Multiplex ICP MACS Bosch Process Categoria: Plasma Etcher, Apparecchiature di processo per semiconduttori …

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PlasmaTherm 790 RIE Plasma Etcher Apparecchiature per processi di semiconduttori, front-end.

Anno: 1994

Tutte le specifiche e le informazioni sono soggette a modifiche senza preavviso e non possono essere utilizzate per l'acquisto e la pianificazione della struttura. Si prega di controllare le informazioni aggiornate sul nostro sito web prima di procedere all'acquisto. Grazie per il vostro tempo. Modello: PlasmaTherm 790 Categoria: Plasma Etcher, Apparecchiature per processi di semiconduttori Produttore di apparecchiature originali: PlasmaTherm …

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Branson/IPC 3000 Plasma Asher

Anno: 1987

Modello o numero di parte: Branson/IPC 3000 Descrizione: Plasma Asher Condizioni: Completo, funzionante con specifiche OEM. Termine del prezzo: EX-ORKS. L'acquirente è responsabile della spedizione. Il cliente è responsabile di eventuali tasse se applicabili. Tempi di consegna: 6-8 settimane dopo il primo pagamento, a seconda dei tempi di spedizione. Imballaggio: Incluso Installazione: Opzionale con un costo aggiuntivo di $4.000,00-$12000 a …

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Sistema di dosaggio GPD SERIE DS

Anno: 2017

Funzionalità altro

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Forno MRL Bandit 218

Anno:

Forno LPCVD da 200 mm tubo 1: TEOS/anale tubo 2: Nitruro/poli, connessioni gas: aria bassa N2, N2, FG1, Ar, O2, SiH2Cl2(DCS), SiH4, NH3 2 pompe da vuoto Kashiyama con soffiatori Controllore della sorgente di drogante Schumacher M-Dot Dimensioni del forno: 66x36x78 Dimensioni modulo gas: 18x36x78 potenza richiesta: 480v, 250amps max

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Impianto taglio plasma/ossitaglio Tepla 600-AL

Anno:

Modello: 600 SemiAuto - Sistema al plasma RF semiautomatico - Può trattare wafer fino a 200 mm - Utilizzato per lo stripping del fotoresist e la pulizia della superficie, nonché per l'incisione del silicio e dei suoi composti - Dimensioni della camera: 245 mm di diametro, 380 mm di profondità - Materiale della camera: ceramica - Generatore RF ENI: 0-600 …

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AST Barrel Asher Plasma Asher Descum apparecchiature per processi di semiconduttori, front-end.

Anno: 1995

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Distributore Camalot 3800

Anno:

Funzionalità altro

3.640 €

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TAZMO SOG COATER CSX2132N

Anno:

TAZMO SOG COATER CSX2132N Produttore: Tazmo Modello: CSX2132N Condizioni tecniche: Buono Stato: Visibile Descrizione: Questa apparecchiatura è un sistema di lavorazione passante progettato per il rivestimento SOG e la cottura, che consente la formazione completamente automatica di film su substrati da 150 mm da cassetta a cassetta. Il sistema prevede il trasferimento del substrato tramite un robot a due mani, …

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Maglio March PX500

Anno:

Alimentatore RF Advanced Energy RFX600 13,56mhz 1 ripiano a terra e 1 ripiano alimentato Pompa per vuoto Leybold

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Impianto taglio plasma/ossitaglio Glen Technologies R3A

Anno:

Controllato da PLC, offre una lettura in tempo reale dei parametri operativi del sistema e un'azione correttiva in caso di interruzione. Plasma attivo per la pulizia di routine delle superfici dei campioni Plasma RIE per la pulizia aggressiva di campioni non sensibili all'ESD Plasma a valle, senza elettroni, per la pulizia di componenti elettronici sensibili. Il pulitore al plasma Glen …

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Bassina per compresse Suss RC8-MS3

Anno:

Spruzzatrice con sistema GYRSET per una migliore uniformità e un minor consumo di resina Cambio rapido Gyrset braccio di erogazione motorizzato e programmabile wafer max 200 mm o substrato quadrato 6 "x6". Armadio di base in acciaio inox Accelerazione massima di 5000 rpm/sec braccio di erogazione motorizzato capacità di erogazione multipla per un massimo di 2 fotoresistenze Alimentatore Cybor 512 …

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Elettroerosione a tuffo PVA Tepla 9204

Anno:

208v, 3 fasi, 50/60hz, 20 ampere Condizioni eccezionali: Il barilotto di quarzo non presenta alcun segno di incisione o di utilizzo. Alimentatore Rf Seren 600 watt 13,56mhz Scatola di distribuzione dell'alimentazione e contattore a parete esterna con EFO

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Cesoia ghigliottina idraulica Digital Instruments D3100AFM

Anno:

Dimensione 3100 AFM Area di imaging X-Y circa 90um quadrati Campo Z circa 6um dimensioni del campione fino a 150 mm controllore nanoscope IIIa Tavola di isolamento acustico integrata

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Impianto taglio plasma/ossitaglio March PX1000

Anno:

Generatore ENI ACG10B 1200W Rf 13,56mhz 2 ripiani alimentati Regolatori di flusso Porter Masss: 1000 SCCM N2 500 SCCM N2

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Serbatoio Plasmafinish V55-G

Anno:

Camera a vuoto 340 x 400 x 450 mm Porta con funzione di sblocco automatico al termine del processo Magnetron con eccitazione a microonde a 2,45GHz, potenza massima regolata 1200W 3 canali di gas con Brooks MFC: N2, Ar, O2 Potenza richiesta 120/208v Pompa da vuoto Pfeiffer DUO65C con olio Fomblin (PFPE) Manometro: Trasduttore assoluto Baratron Controllore di processo PLC …

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Forno a vapore 3TA HMDS di Yield Engineering

Anno:

Camera interna: 12 "l x 13,25 "p x 12 "h (2) Regolatori di temperatura PID 25-200ºC Controllore logico PLD con display touchscreen Vacuometro digitale Granville-Phillips Serbatoio HMDS a sifone ad alta capacità montato lateralmente con manometro per il vuoto montato sul serbatoio Gli interblocchi del vuoto e della pressione assicurano l'integrità del processo e il controllo della pressione dell'azoto Protezione …

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Serbatoio Plasmafinish V55-G

Anno:

Camera a vuoto 340 x 400 x 450 mm Porta con funzione di sblocco automatico al termine del processo Eccitazione a microonde 2,45GHz magnetron, potenza massima regolata 1200W 3 canali di gas con Brooks MFC: N2, Ar, O2 Pompa da vuoto Pfeiffer DUO65C con olio Fomblin (PFPE) Manometro: Trasduttore assoluto Baratron Controllore di processo PLC con RS232 Potenza richiesta: 230/400VAC, …

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