Gebruikte JA EcoClean

Beschrijving advertentie

2"-8" Wafer-mogelijkheid

- Gecontroleerde stripsnelheid – 100-100.000 Å/min (0,01 – 10 um/min)

-Hoge doorvoer – tot 65 wph proces

-Kleine voetafdruk met enkele kamer

-Geen defecten of schade door ICP Downstream Plasma

-R&D naar hoogvolumeproductie met minimale downtime

Verwijdering van fotoresist

PR-ontduiking

Verwijdering van polyimide

Organische verwijdering

Verwijdering van koperoxide

This equipment is located in IE