descrizione
Forno a vapore 3TA HMDS di Yield Engineering
Dimensioni interne della camera:
- Larghezza: 12 pollici
- Profondità: 13,25 pollici
- Altezza: 12 pollici
Controllo della temperatura:
- (2) Regolatori di temperatura PID
- Intervallo di temperatura: 25-200ºC
Sistema di controllo:
- Controllore logico PLD con display touchscreen
Sistema del vuoto:
- Vacuometro digitale Granville-Phillips
- Serbatoio HMDS a sifone ad alta capacità, montato lateralmente, con manometro del vuoto montato sul serbatoio
Caratteristiche di sicurezza:
- Interblocchi del vuoto e della pressione per garantire l'integrità del processo
- Controllo della pressione dell'azoto
- Protezione da sovratemperatura con spegnimento del riscaldatore
Efficienza operativa:
- Azoto preriscaldato per portare rapidamente i wafer alla temperatura operativa
- Capacità multiprogramma
Materiale della camera:
- Acciaio inox 316L lucidato elettrochimicamente
Specifiche elettriche:
- Tensione: 120v
- Fase: 1ph
- Frequenza: 50/60hz
- Corrente: 14amp
Attrezzatura opzionale:
- Pompa per vuoto 7CFM (idrocarburi o Fomblin)
Condizioni tecniche: Buono
Stato: Visibile
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