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Macchinario
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Modello: 600 SemiAuto
- Sistema al plasma RF semiautomatico
- Può elaborare wafer fino a 200 mm
- Utilizzato per la rimozione del fotoresist e la pulizia delle superfici, nonché per l'incisione del silicio e dei suoi composti
- Dimensioni della camera: diametro 245 mm, profondità 380 mm
- Materiale della camera: ceramica
- Generatore RF ENI: 0-600 Watt, 13,56 MHz
- Gas: 4 canali controllati da 4 MFC
- Pompa per vuoto Leybold D65B
- Dimensioni: 740mm x 624mm x 701mm + connessioni
- Elettrico: 230V, 50/60Hz, 15A, 2kW
- 1731 ore
This equipment is located in US
Produttore | Tepla |
Modello | 600-AL |
Anno | - |
Paese | USA |
Condizione | Buono |
Categoria principale | Laboratorio, medicina e bioscienze |
Sottocategoria | Laboratorio Generale |
ID | P403140217 |
Tipo di cliente | Rivenditore di macchinari |
Su Kitmondo dal | 2019 |
Numero di annunci | 50 |
Paese | USA |
Ultima attività | Marzo 14, 2024 |
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