Ερευνητικά Όργανα EUV MBR- MASK METROLOGY

Περιγραφή καταχώρησης

Φασματικό εύρος μετρημένο < 12,5 έως > 14,5 nm
Φασματική Ανάλυση ≈ 1,7 μ.μ
Μέγεθος μετρημένου σημείου Τύπος. 250x100 μm2 --
Μετρημένη δυναμική σήματος > 12 bit ➔ Από < 0,01 % έως > 60
%
CWL_50 Av. Ακρίβεια: ≤ 3 μ.μ
CWL_50 Precision, 3σ ≤ 1 μ.μ
Peak Reflectivity Av. Ακρίβεια Rpeak ~ 65% ≤ 0,5 % απόλυτη
Μέγιστη ανακλαστικότητα Ακρίβεια Rpeak ~ 65%, 3σ ≤ 0,5 %απόλυτο
Peak Reflectivity Av. Ακρίβεια Rpeak ~ 1% ≤ 0,05 % απόλυτη
Ανακλαστικότητα αιχμής : Ακρίβεια Rpeak ~ 1%: ≤ 0,05%: , 3σ ≤ 0,02% απόλυτη

This equipment is located in SG