Onderzoeksinstrumenten EUV MBR- MASK METROLOGY

Beschrijving advertentie

Gemeten spectraalbereik < 12,5 tot > 14,5 nm
Spectrale resolutie ≈ 1,7 uur
Gemeten spotgrootte Typ. 250x100 μm2 --
Gemeten signaaldynamiek > 12 bit ➔ Van < 0,01 % tot > 60
%
CWL_50 gem. Nauwkeurigheid: ≤ 15.00 uur
CWL_50 Precisie, 3σ ≤ 1 uur
Piekreflectie Av. Nauwkeurigheid Rpeak ~ 65% ≤ 0,5 % absoluut
Piekreflectie Precisie Rpeak ~ 65%, 3σ ≤ 0,5 %absoluut
Piekreflectie Av. Nauwkeurigheid Rpeak ~ 1% ≤ 0,05 % absoluut
Piekreflectiviteit: Precisie Rpeak ~ 1%: ≤ 0,05%: , 3σ ≤ 0,02% absoluut

This equipment is located in SG