DNS Dainippon DNS S

Descripción del anuncio

Pantalla Dainippon DNS SU3000

Cosecha: 2005
Estado: Sentado en una base en un almacén en Asia.

Tamaño de oblea 300 mm
Número de cámaras 4
Manejo de la parte delantera
Número de puerto de carga 3
Número de gabinete químico 3
Sistema de transporte aéreo (OHT) Sí

Puerto de carga

Fabricación TDK
Nº de modelo TIPO?E3
infrarrojos

Fabricación Yasukawa Electric Corp.
N.º de modelo XU-RC350D (manipulador)
XU-ACT153L (eje de transferencia)
FFU

Número de modelo PCF-18SU3EA
Material Filtro de resina de fluoración
Capacidad del filtro 99,999 % o más de partículas de 0,1 µm
Rango de control de aire 0~0,4 m/seg.
Unidad de transferencia

RC

Fabricación Yasukawa Electric Corp.
N.º de modelo XU-RC615L
FFU

Número de modelo PCF-43SU3EB
Material Filtro de resina de fluoración
Capacidad del filtro 99,999 % o más de partículas de 0,1 µm
Rango de control de aire 0~0,6 m/seg.
cámara de diputados

Boquilla Boquilla BB (placa protectora)

boquilla-1 DIW
boquilla-2 N2
Boquilla de escaneo-1

boquilla-1 LAL1400
boquilla-2 HF
boquilla-3 DIW
Boquilla de escaneo-2

boquilla-1 (tipo de pulverización suave) SC-1
boquilla-2 (enjuague por aspersión suave) DIW
boquilla-3 DIW
Boquilla trasera

boquilla-1 HF
boquilla-2 SC-1
boquilla-3 DIW
boquilla-4 N2
Base giratoria

Material PCTFE?SiC
Servomotor de CA del motor giratorio
Revolución Max.3000rpm
Aceleración Máx. 1000 rpm/s
Precisión de revolución ±3rpm (a 3000rpm)
Arrojar

Accionamiento de mandril Motor de impulsos
Material PCTFE
Detección de obleas Detección por pasadores de mandril (por fotosensor)
Placa de escudo

Material HT-PVC
Servomotor de CA de accionamiento de revolución
Revolución Max.3000rpm
Aceleración Máx. 1000 rpm/s
Precisión de revolución ±3rpm (a 3000rpm)
Servomotor de CA de cambio hacia arriba/abajo
Distancia a la superficie de la oblea Min.0.3mm
protector contra salpicaduras

Estructura Colección química
Material PTFE
Servomotor de CA de cambio hacia arriba/abajo
Obturador

Cilindro de aire de accionamiento
FFU

Número de modelo PCF-3SU3FC
Material Filtro de resina de fluoración
Capacidad de filtrado 99,9999% de partículas de 0,1 µm
Rango de control de aire 0~0,3 m/seg.
Unidades auxiliares

Gabinete químico 1
Control de temperatura de baja temperatura
HF utilizado químico (49%)
Relación de mezcla química HF: H2O = 1:2 o HF
Rango de control de temperatura RT – 50C
Gabinete químico 2
Control de temperatura de baja temperatura
Químico usado LAL1400
Rango de control de temperatura RT – 50C
Monitor de concentración HORIBA CM-210
Gabinete químico 3
Control de temperatura de baja temperatura
Químico utilizado NH4OH, H2O2, H2O
Relación de mezcla química NH4OH:H2O2:H2O = 1:4:20 – 1:1:5
Rango de control de temperatura RT – 50C
Control de temperatura

Rango de control de temperatura 20~30?
Precisión de control Temperatura establecida ±0,5
Filtrar

Química QCDV ATX TH (Dispo 10 pulgadas: Japón Microlis)
0.1?m
DIW STERRAPORE MINI*
0.1?m
N2 WGMXMBSS3 (Japón Microlis)
0.01?m
FLUJO ELECTRÓNICO

Módulo SEPAREL PF-001L
Medidor de resistividad OE-960CE
Sensor de resistividad ESD-001C-T
Cable sensor CK-10M
Portasensor EFA-30
Relé MY2N-CR DC24V

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