DNS Dainippon DNS S

Descrizione dell'annuncio

Schermo Dainippon DNS SU3000

Annata: 2005
Stato: seduto su una base in un magazzino in Asia.

Dimensione cialda 300 mm
Numero di camere 4
Gestione Frontside
Numero di porta di carico 3
Numero di armadietto chimico 3
Sistema di trasporto aereo (OHT) Sì

Porto di carico

Fabbricazione TDK
Modello n. TIPO?E3
IR

Produzione Yasukawa Electric Corp.
Modello n. XU-RC350D (manipolatore)
XU-ACT153L (Asse di trasferimento)
FFU

Modello n. PCF-18SU3EA
Materiale Filtro in resina fluorurata
Capacità del filtro 99,999% o più di particelle da 0,1 m
Intervallo di controllo dell'aria 0~0,4 m/sec
Unità di trasferimento

CR

Produzione Yasukawa Electric Corp.
Modello n. XU-RC615L
FFU

Modello n. PCF-43SU3EB
Materiale Filtro in resina fluorurata
Capacità del filtro 99,999% o più di particelle da 0,1 m
Intervallo di controllo dell'aria 0~0,6 m/sec
Camera MP

Ugello Ugello BB (piastra di protezione)

ugello-1 DIW
ugello-2 N2
Scansione ugello-1

ugello-1 LAL1400
ugello-2 HF
ugello-3 DIW
Scansione ugello-2

ugello-1 (tipo a spruzzo morbido) SC-1
ugello-2 (risciacquo a spruzzo morbido) DIW
ugello-3 DIW
Ugello sul retro

ugello-1 HF
ugello-2 SC-1
ugello-3 DIW
ugello-4 N2
Base di rotazione

Materiale PCTFE?SiC
Motore di rotazione Servomotore AC
Rivoluzione Max.3000 giri/min
Accelerazione max. 1000 giri/min
Precisione giri ±3 giri/min (a 3000 giri/min)
Mandrino

Azionamento mandrino Motore a impulsi
Materiale PCTFE
Rilevamento wafer Rilevamento tramite perni (tramite sensore fotografico)
Piastra scudo

Materiale HT-PVC
Servomotore AC Revolution Drive
Rivoluzione Max.3000 giri/min
Accelerazione max. 1000 giri/min
Precisione giri ±3 giri/min (a 3000 giri/min)
Servomotore AC con cambio su/giù
Distanza dalla superficie del wafer Min.0.3mm
Paraspruzzi

Struttura Raccolta chimica
Materiale PTFE
Servomotore AC con cambio su/giù
Otturatore

Cilindro dell'aria di azionamento
FFU

Modello n. PCF-3SU3FC
Materiale Filtro in resina fluorurata
Capacità del filtro 99,9999% di particelle da 0,1?m
Intervallo di controllo dell'aria 0~0,3 m/sec
Unità ausiliarie

Armadio Chimico 1
Controllo della temperatura di bassa temperatura
HF utilizzato chimico (49%)
Rapporto di miscelazione chimica HF: H2O = 1:2 o HF
Intervallo di controllo della temperatura RT – 50C
Armadio Chimico 2
Controllo della temperatura di bassa temperatura
Prodotto chimico utilizzato LAL1400
Intervallo di controllo della temperatura RT – 50C
Monitor di concentrazione HORIBA CM-210
Armadio Chimico 3
Controllo della temperatura di bassa temperatura
Prodotto chimico utilizzato NH4OH, H2O2, H2O
Rapporto di miscelazione chimica NH4OH:H2O2:H2O = 1:4:20 – 1:1:5
Intervallo di controllo della temperatura RT – 50C
Controllo della temperatura

Intervallo di controllo della temperatura 20~30?
Precisione di controllo Temperatura impostata ±0,5
Filtro

Chimico QCDV ATX TH (Dispo 10 pollici: Giappone Microlis)
0,1?m
DIW STRERAPORE MINI*
0,1?m
N2 WGMXMBSS3 (Giappone Microlis)
0,01?m
E-FLUSSO

Modulo SEPAREL PF-001L
Misuratore di resistività OE-960CE
Sensore di resistività ESD-001C-T
Cavo sensore CK-10M
Portasensore EFA-30
Relè MY2N-CR DC24V

This equipment is located in IE