ULTRATECH SAVANNAH G2 ALD

Descrizione dell'annuncio

ULTRATECH SAVANNAH G2
Sistema di deposizione laser atomica
Volt: 100-120 V CA
KVA: 1.5KVA-2KVA
HERTZ: 50-60 Hz
La piattaforma Savannah G2 incorpora un'ampia gamma di opzioni avanzate aggiornabili sul campo destinate ad aiutare i ricercatori seri ad espandere il loro portafoglio di film ALD disponibili, oltre a consentire loro di caratterizzare i film in tempo reale. Tra la gamma di opzioni del Savannah G2, è stato sviluppato un esclusivo sistema di erogazione di precursori a basso contenuto di vapore per consentire la crescita di nuovi materiali tra cui film mono e multi-componente di perovskite, ittrio, litio e le famiglie delle terre rare. Opzioni aggiuntive come ellissometria, Quartz Crystal Microbalance (QCM) e spettrometria di massa consentono la crescita simultanea di film ALD e la caratterizzazione in tempo reale del processo di deposizione, tutte funzionalità indispensabili per lo sviluppo del processo e le attività di ottimizzazione.

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